Análisis de los requisitos de desempeño deobjetivos de titanioen diferentes industrias
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I. Requisitos básicos de rendimiento de los objetivos de titanio.
① Pureza: Como uno de los principales indicadores de rendimiento de los materiales objetivo, la pureza tiene un impacto vital en el rendimiento de las películas delgadas. En aplicaciones prácticas, los requisitos de pureza objetivo varían de una industria a otra. Por ejemplo, en la industria de la microelectrónica, con el continuo aumento del tamaño de las obleas de silicio y la continua disminución del ancho del cableado, los requisitos de pureza objetivo también están aumentando. En el pasado, una pureza objetivo del 99,995 % podía cumplir con los requisitos del proceso de 0.35 um IC, pero ahora la preparación de líneas de 0.18 um requiere que la pureza objetivo alcance el 99,999 % o incluso el 99,9999 %.
② Contenido de impurezas: las impurezas en el sólido objetivo y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas. Por lo tanto, objetivos para diferentes propósitos tienen diferentes requisitos de contenido de impurezas. Por ejemplo, los objetivos de aluminio puro y aleaciones de aluminio utilizados en la industria de semiconductores tienen requisitos especiales en cuanto a contenido de metales alcalinos y elementos radiactivos.
③ Densidad: para reducir los poros en el sólido objetivo y mejorar el rendimiento de la película pulverizada, generalmente se requiere que el objetivo tenga una mayor densidad. La densidad del material objetivo no sólo afecta la velocidad de pulverización, sino que también afecta las propiedades eléctricas y ópticas de la película. Además, mejorar la densidad y resistencia del material objetivo también puede hacer que resista mejor el estrés térmico durante el proceso de pulverización catódica. Por lo tanto, la densidad es también uno de los indicadores clave de rendimiento del material objetivo.
④ Tamaño de grano y distribución del tamaño de grano: el material objetivo suele ser una estructura policristalina y el tamaño de grano puede variar desde micras hasta milímetros. Para el mismo material objetivo, la velocidad de pulverización de un objetivo con granos finos suele ser más rápida que la de un objetivo con granos gruesos; y la distribución del espesor de la película depositada mediante pulverización catódica de un objetivo con una pequeña diferencia en el tamaño de grano (distribución uniforme) es más uniforme.
2. Requisitos de pureza para objetivos de titanio en diferentes industrias.
① Objetivos de titanio utilizados en circuitos integrados: los circuitos integrados tienen requisitos de pureza extremadamente altos para los objetivos de titanio, generalmente superiores al 99,995% para garantizar el rendimiento y la estabilidad de la película.
② Objetivos de titanio utilizados en pantallas planas: Las pantallas planas incluyen pantallas de cristal líquido, pantallas de plasma, pantallas electroluminiscentes y pantallas de emisión de campo. Estas pantallas suelen utilizar tecnología de recubrimiento por pulverización catódica para depositar películas delgadas durante el proceso de fabricación. Entre ellos, los objetivos de titanio, como uno de los objetivos de pulverización catódica importantes, normalmente deben tener una pureza superior al 99,9%. Además, los objetivos de titanio también pueden usarse ampliamente en campos de alta tecnología como la electrónica, la industria de la información, la decoración del hogar y la fabricación de vidrio para automóviles. En estas industrias, los objetivos de titanio se utilizan principalmente para recubrir circuitos integrados, pantallas planas o como decoración y revestimiento de vidrio. Al optimizar el rendimiento y la pureza de los objetivos de titanio, se pueden cumplir los requisitos de diferentes industrias en cuanto al rendimiento y la estabilidad de las películas.
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